Informador Técnico
ISSN: 2256-5035 (Electrónico)
ISSN: 0122-056X (Impreso)
Formato: Electrónico / Acceso Abierto
Frecuencia: Números Semestrales
Revisión por Pares: Doble Ciego
Albella, J. M. (Editor). Láminas Delgadas y Recubrimientos. Preparación, Propiedades y Aplicaciones, Madrid 2003.
BARATA, A; CUNHA, L.; MOURA, C. Characterisation of Chromium Nitride Films Produced by PVD Techniques, Thin Solid Films 398-399 (2001) 501-506.
https://doi.org/10.1016/S0040-6090(01)01498-5
CUÉLLAR, C.; SEQUEDA, F.; RUDEN, A.; RESTREPO, J. Análisis estructural, químico y tribológico de recubrimientos de CrN depositados sobre aceros de uso industrial con la técnica de pulverización catódica reactiva El Hombre y la Máquina No. 32 • Enero-Junio de 2009; pp 132-141.
Cuellar, J.; Neira, A.; CORREA, F.; RUDEN, A.; and. SEQUEDA, F. Structural and Tribological Properties of Chromium Nitride - CrNx Films on H-13 Tool Steels Produced by DC-Reactive Magnetron Sputtering. Rev. Society of Vacuum Coaters. 51; 2008 p. 678-683.
Cunha, L.; Andritschky, M.; Pischow, K.; Wang, Z. Microstructure of CrN coatings Produced by PVD Technique. Thin Solid Films 355-376, (1999); p.465-471.
FRISCH, M. J.; TRUCKS, G. W.; SCHLEGEL, H. B.; SCUSERIA, G. E.; ROBB, M. A. and POPLE, J. A. Gaussian, Inc., Pittsburgh PA, 2001.
Greczynski, G.; Jensen, J.; Böhlmark, J.; Hultman, L. Microstructure control of CrNx films during high power impulse magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology 205 (2010) 118–130.
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2010.06.016
GONZÁLEZ, J. M.. Producción de películas de nitruro de titanio aluminio vanadio (TiAlVN) variando la temperatura del sustrato por la técnica PAPVD. Tesis de maestría Universidad Nacional de Colombia. 2007.
Han, Z.; Tian, J.; Lai, Q.; Yu, X.; Li, G. Effect of N2 Partial Pressure on the Microstructure and Mechanical Properties of Magnetron Sputtered CrNx Films. Surface and Coatings Technology, 162 (2003); p 189-193.
https://doi.org/10.1016/S0257-8972(02)00667-9
Hones, P.; Sanjines, R.; Levy, F. Characterization of Sputter-Deposited Chromium Nitride Thin Films for Hard Coatings, Surface and Coatings Technology, 94-95 (1997) 398-402.
https://doi.org/10.1016/S0257-8972(97)00443-X
ISCD Inorganic Cristal Structure Data Base (ICSD) Fiz Karlsruhe.
Jyh-Wei LEE, SHIH-KANG Tien, YU-CHU Kuo, CHIH-MING, Chen. The mechanical properties evaluation of the CrN coatings deposited by the pulsed DC reactive magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology 200 (2006); p. 3330 – 3335.
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2005.07.047
Muñoz, A. M.; López, J. F.; Ruden, A.; Devia, D.M.; Benavides, V. J. GONZÁLEZ, J. M; DEVIA, A. Descripción de Celdas FCC para Películas Delgadas de TiAlN por Métodos Computacionales. Revista Colombiana de Física, vol. 39, no. 1, 2007; p.139 – 142.
Nørskov, J. K.; Bligaard, T.; Rossmeisl, J.; Christensen, C. H. Towards the computational design of solid catalysts. Nature Chem. (2000) p 1- 37.
RUDEN, A. Análisis Estructural, Superficial y Tribológico: Recubrimientos de Nitruro de Cromo (CrN) Sintetizado por Magnetron Sputtering Reactivo DC. Tesis de Maestría. Universidad Nacional de Colombia sede Manizales. 2011
WATZIG, W. Westmejer. Determination of the Average FWHM in Background free spectra. Nuclear instruments and methods. 159 2-3 (1979); 547-551.
Yongqing Fu, XIAODONG, Zhu; BIN TANG, XINFANG Hu; JIAWEN He; KEWEI Xu; BATCHELOR, A.W. Development and characterization of CrN films by ion beam enhanced deposition for improved wear resistance. Wear 217 (1998); p. 159-166.